Yon kontraktè toupre Hamburg bay lòdPlak Hastelloy C2000, 6 mm, pou yon tank asid silfirik 40%, lavi konsepsyon 20 ane. Kesyon sou RFQ a se pa ki alyaj pou itilize - ki deja etabli - men si 6 mm kite ase metal apre korozyon inifòm. Repons lan se yon senp miltiplikasyon, men pifò achtè yo kanpe sou tab la-kowozyon Haynes epi pa janm tounen yon nimewo epesè miray-. Paj sa a montre aritmetik la.
Pwodwi a nan yon tab
Tablo 1 - Ranje espesifikasyon plak Hastelloy C2000 (ASTM B575, solisyon -rekwit)
|
Atik |
Valè |
|
UNS / W.Nr. |
N06200 / 2.4675 |
|
Chimi |
Ni bal, Cr 22.0–24.0, Mo 15.0–17.0, Cu 1.3–1.9, Fe Mwens pase oswa egal a 3.0, Co Mwens pase oswa egal a 2.0, Mn Mwens pase oswa egal a 0.50, Si Mwens pase oswa egal a 0.08, C0 Mwens pase oswa egal a 0,01 oswa egal a. 0.010 |
|
Mekanik (plak, tanperati chanm) |
690 MPa tansyon min / 310 MPa sede min / 45% elongasyon min |
|
Dansite |
8.50 g/cm³ |
|
Ranje k ap fonn |
1,370-1,410 degre |
|
Tretman chalè |
Solisyon anneal 1,050-1,150 degre, rapid fre |
|
PREN |
~76 (Cr + 3.3Mo + 16N, N≈0) |
|
Estanda ki gen rapò |
B575 plak / fèy / teren; B619 tiyo soude; B622 tiyo san pwoblèm; B366 ekipman yo |
Chimi a se pwodwi a. Kwòm nan 22-24% okipe asid oksidan, 15-17% molybdène manch diminye klori, ak 1.3-1.9% kwiv la panche alyaj la nan direksyon rezistans asid silfirik. Li se adisyon Cu a ki separe C2000 ak C276 sou yon fichye done.
Done -kowozyon: pwen depa
Haynes International pibliye done imèsyon 24-èdtan pou C2000 ki gen solisyon. Pou konsepsyon asid silfirik, ranje ki enpòtan yo se:
Tablo 2 - To kowozyon plak Hastelloy C2000 nan asid silfirik (mm/ane, solisyon -rekwit)
|
H₂SO₄ konsantrasyon |
24 degre |
50 degre |
75 degre |
100 degre |
Bouyi |
|
10% |
<0.025 |
<0.025 |
<0.025 |
<0.025 |
0.09 |
|
20% |
<0.025 |
<0.025 |
<0.025 |
0.03 |
0.18 |
|
40% |
<0.025 |
<0.025 |
<0.025 |
0.05 |
0.42 |
|
60% |
<0.025 |
<0.025 |
0.02 |
0.16 |
1.13 |
|
80% |
<0.025 |
<0.025 |
0.07 |
0.37 |
0.91 |
|
96% |
<0.025 |
<0.025 |
<0.025 |
0.05 |
0.19 |
Sa yo se valè laboratwa sou echantiyon pwòp. Tank reyèl yo wè koulè chalè soude, depo, demaraj-fache ak klori detanzantan transfè-. Yon faktè jaden 2–3× konsèvatif pou konsepsyon.
Fòmil -alokasyon korozyon an
Pou korozyon inifòm, alokasyon korozyon ki nesesè yo se:
Alokasyon korozyon (mm)=to korozyon (mm/a) × lavi konsepsyon (y) × faktè jaden
ASME VIII-1 pa mete faktè jaden an; se yon desizyon pwojè. Pratik komen pou ekipman pwosesis ki pa amovible sefaktè jaden=2.0ak lavi konsepsyon=20 ane. Si eleman nan enspekte ak ranplase, yo ka aksepte yon faktè 1.5.
Tablo 3 - Egzanp kalkil alokasyon korozyon: 40% H₂SO₄, 75 degre, lavi 20 ane
|
Antre |
Valè |
|
Sèvis |
40% H₂SO₄, 75 degre |
|
C2000 plak laboratwa pousantaj |
<0.025 mm/y (use 0.025) |
|
Faktè jaden |
2.0 |
|
Konsepsyon lavi |
20 y |
|
Alokasyon korozyon obligatwa |
0.025 × 20 × 2.0 = 1.0 mm |
|
Minimòm estriktirèl (pwojè) |
3.0 mm |
|
Espesifye nominal epesè |
6.0 mm |
|
Mi ki rete apre 20 an |
6.0 − 1.0 = 5.0 mm |
Pou ka sa a, 6 mm se jenere. Men, si tanperati a monte nan bouyi 40% asid, pousantaj la sote a 0.42 mm / y ak alokasyon ki nesesè a vin 16.8 mm anvan faktè a jaden. Se poutèt sa menm asid la nan de tanperati diferan ka deplase epesè plak la pa plis pase 10 mm.
C2000 vs C276 vs C22 plak: pri pou chak mm pèdi
Alokasyon korozyon an se sèlman mwatye desizyon an. Lòt mwatye a se sa chak milimèt pèdi metal pwi yo, paske alliages yo pa corrode nan menm pousantaj e pa koute menm bagay la tou.
Tablo 4 - Konparezon alyaj plak pou sèvis asid silfirik (endikatif)
|
Alyaj |
UNS |
H₂SO₄ 40%, pousantaj 75 degre (mm/a) |
20-y alokasyon, F=2 (mm) |
Pri plak relatif |
Pri pou chak mm pèdi (endèks) |
|
Hastelloy C2000 |
N06200 |
0.025 |
1.0 |
1.25 |
1.0 |
|
Hastelloy C276 |
N10276 |
0.08 |
3.2 |
1.20 |
3.0 |
|
Hastelloy C22 |
N06022 |
0.06 |
2.4 |
1.30 |
2.6 |
|
904L |
N08904 |
0.50 |
20.0 |
0.35 |
Pa solid |
|
316L |
S31603 |
>2.0 |
>80 |
0.10 |
Pa solid |
Tablo a se senplifye - pousantaj aktyèl yo varye ak enpurte, koule ak kondisyon soude - men mesaj la klè: pou cho, diminye asid silfirik, pousantaj korozyon ki ba C2000 a ka jistifye pi gwo pri baz li yo paske alokasyon korozyon ki nesesè yo pi piti. Pou sèvis klori oksidant, konparezon an deplase nan direksyon C22. Pou pi bon kalite diminye HCl, C276 souvan genyen.
Limit asid idroklorik
C2000 tou okipe HCl pi bon pase C276 nan konsantrasyon ki ba, men pousantaj la ogmante vit ak tanperati:
Tablo 5 - To kowozyon plak Hastelloy C2000 nan asid idroklorik (mm/ane)
|
konsantrasyon HCl |
24 degre |
50 degre |
Bouyi |
|
1% |
<0.025 |
<0.025 |
0.05 |
|
5% |
<0.025 |
0.05 |
0.13 |
|
10% |
<0.025 |
0.08 |
0.25 |
|
20% |
0.05 |
0.13 |
0.51 |
Pou bouyi 10% HCl, yon alokasyon 20-ane nan F=2 ta dwe 10 mm. Se poutèt sa sèvis HCl pi wo a apeprè 50 degre anjeneral pouse konsepsyon an nan direksyon C-22 oswa B-3 olye ke C2000, malgre pi bon pèfòmans asid silfirik C2000 la.
Espesifikasyon, gwosè ak gwoup pri
Plak C2000 apwovizyone solisyon -rekuit ak marinated, tipikman3-50 mmepè nan lajè 1,000/1,200/1,500/2,000 mm ak longè a 6,000 mm. Fèy woule-frèt0.5-6 mm. Tolerans swiv ASTM B575 / ASTM A480. Indicatif FOB Lachin prix seUSD 18-32/kgdepann sou epesè ak kantite lòd. Pri a swiv liy nikèl la plis molybdène ak surcharges cobalt.
FAQ
K: Ki diferans ki genyen ant plak Hastelloy C2000 ak C276?
A: C2000 ajoute 1.3-1.9% kwiv nan baz Ni-Cr{-Mo, ki amelyore rezistans nan asid silfirik ak kèk asid melanje. C276 pote plis molybdène (15-17% vs C2000 a 15-17% gwoup menm jan an) ak tengstèn, bay pi bon rezistans nan asid idroklorik cho. Pou asid silfirik, C2000 anjeneral genyen; pou HCl, C276 se souvan depans ki pi bon.
K: Èske mwen ka itilize nimewo kowozyon -Haynes yo dirèkteman nan ASME VIII-1?
A: Non. Nimewo yo pibliye yo se valè imèsyon laboratwa 24-èdtan. Kòd konsepsyon mande pou yon alokasyon korozyon ki konte pou faktè jaden, efè soude, demaraj-fache ak entèval enspeksyon. Miltipliye pousantaj laboratwa a pa yon faktè defini nan pwojè a, anjeneral 1.5–3.0.
K: Èske plak Hastelloy C2000 ka soude?
A: Wi, nan solisyon an-kondisyon rkwit lè l sèvi avèk ranpli ERNiCrMo-17 oswa ERNiCrMo-4, tou depann de si ou vle soude a matche ak C2000 oswa panche nan C276 chimi. Kenbe tanperati interpass pi ba pase 150 degre epi sèvi ak gaz argon fè bak sou pas rasin yo.
K: Kisa mwen ta dwe verifye sou plak MTR pou C2000?
A: Verifye kabòn Mwens pase oswa egal a 0.010%, kwiv 1.3-1.9%, molybdène 15.0-17.0%, epi plak la apwovizyone nan solisyon an-kondisyon rkwit. Yon rezilta tès kowozyon intergranular G28A souvan ajoute pou sèvis asid kritik.
K: Ki lè plak C2000 pa bon chwa?
A: Pou klori oksidan fò tankou klò mouye oswa klori ferrik, C22 oswa C276 depase C2000. Pou sèvis alontèm ki pi wo pase apeprè 650 degre, nivo nikèl solid-solisyon tankou 600 oswa 800H pi bon. Pou pi bon kalite caustic, Nikèl 201 se pi bon mache chwa ki kòrèk la.
Kijan Pou Kowopere Ak Nou?
fini konsantrasyon asid ou, tanperati, lavi konsepsyon ak epesè estriktirèl minimòm poumarket@htpipe.com. Nou bay plak Hastelloy C2000 ASTM B575, nou pral kalkile alokasyon korozyon apati done pousantaj pibliye yo, epi nou pral di w klèman si plak C276 oswa C22 se pi ba lavi -sik- chwa pri asid ou a.
Adrès nou an
7 Floor, 4yèm Jinyin Modern City, Jinshui District, Zhengzhou, Henan, Lachin
Nimewo Telefòn
+86-371-60953359
+8619339900201
E-lapòs
market@htpipe.com
